EPEE i200系列主要用于6/8英寸氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃等薄膜沉积工艺,平台式多反应腔架构,兼容Si、SiC、GaAs等不同衬底材料,广泛应用于集成电路、化合物半导体、功率半导体、半导体照明、硅基微型显示、科研等领域。